基板:B270 / N-BK7 / H-K9L / H-K51 寸法許容差:-0.1mm 厚さの許容差:±0.05mm 表面の平坦度:2(1)@632.8nm 表面品質:10月20日 線幅:最小0.003mm エッジ:アース 0.3mm以下全幅ベベル 明確な絞り:90% 並列処理:5 インチ未満 コーティング:高光学濃度不透明クロム、タブ<0.01%@可視波長透明領域、AR: R<0.35%@可視波長 プロセス:ガラスをエッチングし、ケイ酸ナトリウムと二酸化チタンを充填
基板:B270 /N-BK7 / H-K9L 寸法許容差:-0.1mm 厚さの許容差:±0.05mm 表面の平坦度:3(1)@632.8nm 表面品質:10月20日 線幅:最小0.003mm エッジ:アース 0.3mm以下全幅ベベル 明確な絞り:90% 並列処理:<30 インチ コーティング:単層MgF2、Ravg<1.5%@設計波長
線/点/図形: Cr または Cr2O3
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